Kode DIASSE

En résumé

Entreprises

• STMicroelectronics - Mask Data Preparation ingineer

  2013 - maintenant Dans l'équipe Design Foundation, j'ai travaillé dans l'amélioration de la génération des masques de Polysilicium principalement pour la technologie 28 nanomètres.

Formations

• Université Clermont 2 Blaise Pascal

  Clermont Ferrand 2012 - 2013 Microélectronique et Architecture des Circuits Intégrés

Réseau

• Bada NDOYE

• Mamadou DIALLO

• Papa Kéba NDIAYE

• Yassine JAAFAR