Lino EUGÈNE

En résumé

Entreprises

• Quantum Nanofab, University of Waterloo, ON, Canada - Ingénieur lithographie par faisceau d'électrons

  2016 - maintenant Responsable d'un système de lithographie par faisceau d'électrons JEOL JBX-6300FS

• McGill Nanotools Microfab, Université McGill, Montréal, QC, CANADA - Ingénieur procédés de micro/nanofabrication

  2011 - 2016

• Centre de Recherche en Nanofabrication et Nanocaractérisation (CRN2) - Chercheur postdoctoral/Professionnel de recherche

  2010 - 2011 - Assurer le support pour la lithographie par faisceau d'électrons, utilisée dans différents projets du laboratoire
  - Fabriquer des microstructures ou dispositifs pour les clients

• Université de Sherbrooke (Canada)/INSA de Lyon (France) - Chercheur en doctorat

  2004 - 2009 Réalisation et caractérisation opto-électrique d’un nanopixel à base de nanocristaux de silicium
  - Développer la fabrication de nanostructures verticales contenant des nanocristaux de silicium par électrolithographie et gravure plasma
  - Caractériser les nanostructures fabriquées par microscopie électronique à balayage et par profilométrie
  - Développer un procédé simple et peu coûteux pour isoler électriquement les nanostructures
  - Etudier le chargement et le transport électriques dans des capacités métal-oxyde-semiconducteur avec des nanocristaux de silicium
  - Etudier l’absorption optique dans les nanocristaux de silicium par des mesures de photocourant
  - Encadrer des stagiaires

• Interuniversity MicroElectronic Center (IMEC), Leuven, Belgique - Stagiaire

  2003 - 2003 Étude de l’influence de différents paramètres technologiques sur la constante de temps RC et fiabilité des interconnexions cuivre/low-k
  - Effectuer des simulations de structures avec RAPHAEL de Synopsys
  - Caractériser électriquement des structures Meander-Fork et métal/low-k/métal pour déterminer leurs performances
  - Participer et présenter les résultats aux réunions hebdomadaires avec les industriels impliqués dans le programme de recherche (ASM, Philips, Texas Instrument, AMD)

• Interuniversity MicroElectronic Center (IMEC), Leuven, Belgique - Stagiaire

  2001 - 2001 Etude de la fiabilité des barrières de diffusion en TiN déposées par ALCVD (Atomic Layer Chemical Vapor Deposition) pour les interconnexions cuivre/low-k
  - Etudier la fiabilité de couches minces de TiN par des tests de pénétration avec l’acide fluorhydrique
  - Caractériser les couches attaquées par des mesures de résistivité électrique et par microscopie électronique à balayage

• Solvay Polyolefins Europe, Sarralbe (57) - Stagiaire

  1999 - 1999 Réalisation d’une cartographie de poussières de l’usine

Formations

• Université De Sherbrooke (Sherbrooke)

  Sherbrooke 2004 - 2009 Génie électrique
  
  Doctorat génie électrique

• Institut National Des Sciences Appliquées (Villeurbanne)

  Villeurbanne 2004 - 2009 Doctorat EEA Dispositifs de l'Électronique Intégrée

• Institut National Des Sciences Appliquées

  Villeurbanne 1999 - 2003 Matériaux et dispositifs semiconducteurs

• Université Metz

  Metz 1997 - 1999 Techniques Instrumentales

Réseau

• Carole CHARBUILLET

• Charles POPULAIRE

• Christelle GÉNIN

• Eva SERRES

• Florence BRAVO

• Gregoire DUCOTEY

• Jean-Claude GERBEDOEN

• Julien VITIELLO

• Sara MAIEZ-TRIBUT

• Yoann ROZIER