Montreuil2012 - 2013Objectifs de la formation :
1 - Développer des composants d'interface(api Swing, IDE Netbeans)
2 - Développer la persistance des données(utilisation sql server 2008)
3 - Développer une application N-tiers(java EE, EJB3,JPA)
2012 - 2012Objectif : Analyser, modéliser et développer des applications en langages C, C++ et java.
Réalisation d’une application en C pour la gestion des salariés d’une entreprise.
Environnement: Eclipse.
Réalisation d’une application en C++ pour la gestion d’une bibliothèque.
Environnement: Eclipse.
Réalisation d’une application en Java/JEE pour la gestion d’un collège.
Environnement: Eclipse, Wamp, java jEE, Tomcat 7, MySQL, Junit.
Réalisation d’une application en Java/JEE pour la gestion d’un centre de formation.
Environnement: Eclipse, Wamp, java jEE, Tomcat 7, MySQL, Hibernate, Spring, Junit.
Centre Microéléctronique de Provence (CMP)
- Stage de fin d'etude
2010 - 2010Etude de l’adhésion des différentes interfaces d’un transistor organique.
Recherche bibliographique sur les différentes théories avancées pour expliquer l’adhésion (ancrage mécanique, interaction intermoléculaire, liaison chimique, mouillage) et sur les différentes méthodes de détermination d’un paramètre d’adhérence(pull off, essai de traction, méthode laser, pelage, scratch test).
Mise en place de méthodes de caractérisation de l’adhésion.
Mise en place de méthodes de mesure d’adhérence reproductible afin de caractériser l’adhésion de couches minces constituant les couches actives d’un transistor organique déposées sur substrat souple. Trois méthodes ont été mise en places et améliorés afin d’avoir de meilleur résultats et des essais plus reproductibles.
Manipulation en salle blanche :utilisation de différents outils de caractérisation.
Profilometre mécanique et optique :déterminer la rugosité
Goniomètre de mouillabilité :déterminer les énergies de surface
RIE(Reactive-Ion Etching/ gravure ionique réactive) : traitement plasma
DSC(Differential Scanning Calorimetry/Calorimétrie Différentielle à Balayage) : mesure de la température de transition vitreuse, de cristallisation et de fusion.
