2011 - maintenantDéveloppement et industrialisation des procédés de polissage mécano-chimique (CMP) pour technologies CMOS avancées et dérivatives (imager, flash, bipolaire, photonic)
STMicroelectronics
- Ingénieur doctorant
2007 - 2010Thèse CIFRE STMicroelectronics / CEA-LETI / CNRS-LTM
Développement et élaboration par MOCVD de matériaux à changement de phase à base d’alliages GeTe : applications aux mémoires embarquées pour la microélectronique
soutenue le 13 décembre 2010, référence HAL tel-00668137
