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Sophie JOURDAN

Veurey Voroize

En résumé

Ingénieur généraliste option Matériaux avec 12 ans d’expérience en industrie qui se sont concrétisées dans les domaines de l’industrialisation, du développement et de la gestion de projet. Dans le cadre de mon parcours professionnel, ma motivation est de poursuivre dans la gestion de projet.

Mes compétences :
Gestion de projet
Pre-industrialisation
Support de production
Développement produit
Matériaux GaN (III-V)
Matériaux II-VI

Entreprises

  • Sofradir - Chef de projet Développement technologies et produits

    Veurey Voroize 2013 - maintenant Chef de projet Développement technologies et produits au sein du département de Back_End
    Je gère des projets pour développer des nouvelles technologies et des nouveaux procédés de fabrication allant du matériau de base II-VI à la cryogénie en passant par le circuit de détection et le circuit de lecture dans le domaine des détecteurs infra rouge.

  • Soitec - Chef de projet-Leader Integration procédé

    Bernin 2009 - 2013 Je coordonne et gère le projet de fabrication de substrat pour produit LEDs pour des clients asiatiques: demande client, planification, qualité produit, retour client…et je pilote l’avancement et anime l’équipe projet (10 pers.)

  • Soitec - Ingenieur developpement nouveaux procédés

    Bernin 2006 - 2009 j’étais en charge des procédés de polissage et de gravure lors de la réalisation d’un substrat pour la fabrication de LEDs : développements des procédés pour nouveaux matériaux et produits, évaluation équipement, suivi SPC, support technique, formation…et gèrais également tous les prototypes : demande client, planification, développements de nouveaux produits, qualité produit, retour client…

  • Atmel - Ingenieur Procédé en polissage

    Rousset 2004 - 2006 J’ai mis en place un nouveau procédé CMP Direct STI sur EBARA avec l’oxyde de cérium en production : évaluation équipement, suivi SPC, support technique, formation…

  • ALTIS Semiconductor - Ingenieur Procédé en polissage

    2003 - 2004 J’ai mis en application un nouveau procédé CMP Cuivre et Tantale sur un même plateau pour diminuer de 20% le temps de fabrication en production : suivi SPC, support technique en production, formation

  • ALTIS Semiconductor - Ingenieur procédé en implantation ionique

    2002 - 2003 J’ai évalué un équipement de mesure et de contrôle de dose après implantation ionique.

  • Atmel - Ingenieur industrialisation

    Rousset 2001 - 2001 J’ai mis en production un contrôle de dose non destructif en implantation ionique: évaluation équipement (DOE, caractérisation et validation de ces performances), suivi SPC, support technique, formation…

Formations

Réseau

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