VILLARD BONNOT
.1999, stage de fin d'études au CSEM (Centre Suisse d'Electronique et Microtechnique) à neuchâtel en Suisse (10 mois) en process gravuve sèche (dry etch)
.2000, ST Microelectronics (semiconducteur) à Crolles (38). Plusieurs expériences :
> > > Ingénieur équipement en photolithography pendant un peu plus de 5 ans [2000-2005]
> > > Prise en charge de la responsabilité d'une équipe de techniciens et ingénieurs équipements pendant 7ans en photolithography [2005-2012]
> > > Prise en charge de la responsabilité d'une équipe de techniciens et ingénieurs équipements pendant 1.5an en traitement thermique (Diffusion) [2012-2013]
> > Prise en charge de la responsabilité d'une équipe de techniciens et ingénieurs équipements en gravure sèche (dry etch) [2013-xxxx]
.L'avenir est devant ...
Pas de formation renseignée
