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Vincent DOLIQUE

LYON

En résumé

Je suis actuellement ingénieur de recherche CNRS au laboratoire de Physique de l'ENS Lyon:
Les activités du Laboratoire de Physique couvrent des domaines très variés, allant de la physique statistique à la turbulence hydrodynamique, en incluant aussi la physique mathématique et le traitement du signal, mais aussi la matière molle ou condensée.
Dans ce cadre, j’interviens dans plusieurs thématiques :
- l'étude du bruit thermique par interférométrie laser.
- l'étude de plasma turbulents et la magnétohydrodynamique.
- la rhéologie de fluides complexes.
- la micro-fluidiques.
Je suis aussi responsable :
- de la salle blanche de classe 8.
- d'un MEB ZEISS SUPRA 55VP.
- d'un AFM JPK.

De mes expériences antérieures, j'ai aussi des compétences dans les domaines suivant:
- procédés PVD, CVD...(développement et optimisation).
- l’élaboration et la caractérisation de nouveaux matériaux.
- la gestion de partenariats industriels et/ou scientifiques.

J'ai des connaissances et une vision globale sur l’ensemble de la chaine menant des nouveaux procédés, ou matériaux, réalisés en laboratoire jusqu'à l’application industrielle.

- Développement et maitrise des procédés plasma.
- Gestion et mise en place scientifique et technique de procédés plasma.
- Rédaction cahier des charges.
- synthèses de couche minces et revêtements.
- études des corrélations entre les spécifications du procédé utilisé et les propriétés recherchées,
- caractérisations et études fondamentales de nouveaux matériaux,
- rédaction de brevets.
- valorisation des travaux de recherches (brevets, publications, communications…etc)

Mes compétences :
Recherche
Ingénierie
Rédaction
R&D
Communication
Gestion de projet
Analyse

Entreprises

  • Laboratoire de Physique / ENS Lyon / CNRS - Ingénieur de Recherche

    2017 - maintenant

  • Laboratoire des matériaux avancés - Ingénieur de recherche

    2011 - 2017

  • GREMI - Ingenieur de recherche

    2007 - 2008 Le GREMI est un laboratoire public associé au CNRS (UMR 6606).
    Les programmes de recherche du GREMI s’intéressent aux applications des plasmas et lasers. Ces applications scientifiques ou technologiques exploitent les propriétés thermiques, réactives, conductrices et radiatives des plasmas qui peuvent varier considérablement selon leur mode de production. Ces propriétés très variables offrent ainsi aux plasmas une large adaptabilité à un grand nombre d’applications potentielles. Les technologies plasmas peuvent généralement être qualifiées de propres au sens environnemental du terme. Les recherches s’appuient sur un important potentiel expérimental dédié d’une part à la production du milieu plasma et d’autre part au diagnostic, avec un large appel à la modélisation de plus en plus indissociable de l’expérimentation.

    Au sein du GREMI, je suis en charge de dévelloper un brevet déposé par l'université et le CNRS(WO/2008/028981)
    Ce brevet porte sur l'élaboration sous forme de couches minces d'alliages métalliques par pulvérisation magnétron.
    J'ai donc deux missions principales :
    - d'une part trouver des entreprises potentiellement intéressées par ce brevet en vus de mettre en place des licences.
    - d'autre part, d'enrichir le brevet en effectuant des recherches sur d'autres alliages et ainsi, suivant les résultats, déposé un second brevet.

  • GREMI - Chef de projet

    2007 - 2011 Au GREMI durant 5 ans, j'ai travaillé sur plusieurs projets en lien avec les procédés plasma et leurs applications :
    dans ce cadre, plusieurs missions me sont confiées :
    - l'élaboration de couches minces par procédés PVD et/ou PECVD.
    - la recherche et l'optimisation de conditions de dépôts pour une application spécifique : dépôt sur surfaces complexes, recherche de nouveaux matériaux...,
    - la coordination entre l'entreprise et le laboratoire
    - Modifications, validations de nouveaux procédés.
    - Rédaction de cahiers des charges.
    - Analyse et rédaction de brevets.
    - Formation des doctorants et stagiaires sur les bâtis de procédés plasma.
    - Conduite de projets.
    - Elaboration de plans d’expériences.
    - Gestion de partenariats industriels.
    - Encadrements : doctorants, stages, visites de laboratoire.

  • LMP Poitiers - Attaché temporaire d'enseignement et de recherche

    2006 - 2007 enseignant a l'université de Poitiers, divers cours, TD et TP de L1 à M1.

    poursuite de la recherche sur les phases MAX et dépôts/caractérisations de couches minces.

  • Institut PPRIME - Doctorant

    2003 - 2007

  • Laboratoire metallurgie physique - Doctorant

    2003 - 2007 Vous trouverez ma thèse sur le lien suivant : http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00146674/fr

    L’objectif premier de ce travail est la réalisation sous forme de couches minces de phases MAX (son nom provenant de sa formule chimique Mn+1AXn, n=1,2…). Les phases MAX sont de nouveaux matériaux découvert dans les années soixante par Novotny et al. Mais étudié récemment par la communauté scientifique. Dans les années 90,Barsoum et al. De l’université de Drexel de Philadelphie ont entamé une étude systématique des propriétés des phases MAX et notamment de Ti3SiC2. Ces matériaux ont un fort potentiel d’application industriel dû fait de leur comportement à haute température. Cependant, à ce jour, la synthétisation de phases MAX sous forme de couche mince n’a pas été réussie. Pour atteindre notre but, nous avons orienté nos recherches vers trois grands axes. La réalisation de Ti2AlN par pulvérisation magnétron sur substrat modèle en vue d’en étudier les propriétés physiques et mécaniques. La nitruration de substrat de type TiAl pour une éventuelle application industrielle. Et l’étude des mécanismes de diffusion et de formation de Ti2AlN par recuit de multicouches TiN/TiAl.
    La réalisation de Ti2AlN sur substrat modèle s’est fait sur un nouveau bâti magnétron reçu au LMP en début de thèse. Les premières étapes ont d’abord été de comprendre le fonctionnement de l’enceinte magnétron en dépôt réactif. Pour cela nous avons réalisé une épitaxie de TiN (composé simple et bien connue) sur MgO. Puis nous avons entrepris la réalisation de Ti2AlN.
    La nitruration de substrat TiAl a commencé par la nitruration de films mince de TiAl et Ti2Al sur Si. Nous avons alors observé, par nitruration à 900°C, la formation de Ti2AlN uniquement dans le film mince de stoechiométrie TiAl. En effet, le composé Ti2Al n’existant pas, nous avons présence des phases TiAl et Ti3Al. Ti3Al, composé stable sous nitruration, empêche la formation de Ti2AlN. La nitruration de TiAl massif à 900°C nous a permis de former un film de Ti2AlN orienté [103]. Fort de ces résultats, nous avons revêtu des substrats de TiAl à grains millimétriques d’une couche de 100nm de TiAl à froid. Nous avons alors obtenu des petits grains de TiAl (favorable à la formation de Ti2AlN) sur un substrat de TiAl. La nitruration de ces substrats revêtus a permis la formation de Ti2AlN sur toute la surface du substrat avec une orientation [002]. Cette orientation particulière du cristal de Ti2AlN étant recherchée pour ces propriétés physiques et mécaniques.
    La formation de Ti2AlN par recuit de multicouches TiN/TiAl a permis de comprendre les mécanismes de diffusion lors de sa formation. Une étude par DRX in situ à 600°C a montré la vitesse de formation de la phase MAX. Nous avons pu prouver, par une étude METHR, que Ti2AlN ne se formait que dans les couches de TiAl par diffusion d’azote. La couche de TiN gardant sa structure initiale avec des atomes d’aluminium en insertion.

Formations

  • Université Poitiers UFR Sciences

    Futuroscope Chasseneuil 2003 - 2006 Thèse phases MAX et pulvérisation magnétron

    thèse réalisée au LMP (université de Poiters), soutenue le 19 janvier 2007

  • Université Poitiers

    Poitiers 2000 - 2003 licence et maitrise physique-chimie et DEA physique

  • Université Tours Francois Rabelais (Tours)

    Tours 1996 - 2000 DEUG sciences de la matière

  • Lycée Camille Claudel (Blois)

    Blois 1993 - 1996 BAC S

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