FRANCE TELECOM R&D (ex-CNET)
- Thésard
1990 - 1993
Thèse de doctorat : “Gravure de l'aluminium en plasmas halogénés basse pression Influence du facteur d'aspect”
Responsables scientifiques: Jean GALVIER (STMicro) Daniel HENRY (STMicro)
Directeur de thèse: Jean Claude PORTAL (CNRS)
- Technologies de fabrication de circuits intégrés (optimisation de procédés et intégration) sur une technologie avancée (à l’époque) : 0,5µm, double métal avec plugs W.
– Technologies de gravure par plasmas réactifs (Diode, Triode, Hélicon, ECR)
– Spectroscopie des plasmas
– Etude des mécanismes macroscopiques et microscopiques de gravure
– Observation et analyse de surface (SEM, Auger, ESCA, SIMS…)
– Modélisation des interactions Plasma Surface (Evolution de profils de gravure, Microloading)
