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Grégory TORTISSIER

TOKYO

En résumé

Mes compétences :
Nanoimprint
Semiconductor process
Micro/nanopatterning
Anti reflective coatings
Coating deposition process
Cleanroom process
Surface wettability
E-beam lithography
International R&D
Project management

Entreprises

  • Nikon and Essilor International Joint Research Center - Chercheur

    2012 - maintenant Projet: Fabrication de surface optiques transparentes nanostructurees et superhydro/oleophobiques

    Challenges techniques:
    • Micro/nano structuration par e-beam and nanoimprint lithography
    • Evaluation/benchmarking résines compatibles Nanoimprint
    • Fonctionnalisation de surface (etching, spin/dip coating, evaporation...)
    • Characterization de materiaux: AFM, profilometrie, spectrophotometrie, SEM, FTIR,
    tribometre...

    Gestion de projet:
    • Responsable de l’activité nanofabrication et salle blanche (maintenance et training)
    • Mise en place de collaborations de recherche et gestion du portefeuille fournisseurs
    • Co-développement des procédés avec compagnies mères
    • Veille technologique structuration de surface et 3D printing

  • Tokyo University - Ingenieur de recherche

    2009 - 2011 Projet: Fabrication d'un interferometre Fabry-Perot souple pour application « flexible display »

    Gestion de projet:
    • Mise en place de l’activité « Inkjet printing » au sein du groupe microfabrication

    Challenges techniques:
    • intégration d'un nouveau procédé (Inkjet) au sein d'un environnement de fabrication MEMS bien contrôlé
    • Evaluation/benchmarking encres et résines
    • Modélisation éléments finis (Comsol Multiphysics) et optimisation des propriétés thermoélectriques

  • Laboratoire IMS - Master recherche (05/2006 à 09/2006)

    2006 - 2006 Optimisation des procedes de depots de materiaux inrganique sur dispositifs acoustique SAW.
    Photolithographie, process salle blanche,et caracterisation couche inorganique mesoporeuse

  • Laboratoire IMS - Doctorant

    2006 - 2009 Projet: Developement d'un capteur de gaz/particles pour application haute temperature
    • Capteur acoustique piezoeletrique
    • Fabrication capteur acoustique (procédé semiconducteur en salle blanche)
    • Deposition couche minche inorganique mesoporeuse par procédé Sol-gel

  • Philips - Stage ingenieur

    Suresnes 2005 - 2005 Synthese, depot et optimisation de couche LiNbO3 par process "sol gel" pour batteries Lithium nouvelle genereation (solid state).

Formations

Réseau

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